化学镀方法制备钯／多孔TiAl合金复合膜

摘　　要:

通常采用无机膜分离技术中的钯合金膜扩散法制备超高纯氢（99．999％以上）。因此，研究高性能钯合金膜具有很大的现实意义。该文作者采用化学镀的方法，在TiAl多孔材料表面上成功地镀上一层钯膜：运用XRD和SEM等测试手段，对TiAl多孔材料载体和钯膜进行表征。研究表明，采用化学镀方法制备钯／多孔TiAl合金复合膜，过程不需要活化，TiAl多孔材料载体表面的钯膜厚度为10～15μm，与载体之间结合良好；该复合膜具有较好的选择透过性，在压差△P=-0．18MPa及500℃条件下，其选择性大于120，通量为0．29mol／（m^2·s）。 (共5页)